Орликовский, Александр Александрович

Материал из Википедии — свободной энциклопедии
Александр Александрович Орликовский
Дата рождения 12 июня 1938(1938-06-12)
Место рождения
СССР
Дата смерти 1 мая 2016(2016-05-01) (77 лет)
Страна  СССР Россия
Род деятельности физик
Научная сфера микро- и наноэлектроника
Место работы
ФТИАН
Альма-матер
МИФИ
Учёная степень
доктор технических наук
Учёное звание профессор,
академик РАН
Награды и премии
Орден Дружбы
Премия Правительства Российской Федерации в области науки и техники Премия Правительства Российской Федерации в области образования

Алекса́ндр Алекса́ндрович Орлико́вский (

Физико-технологического института РАН
(ФТИАН).

Биография

Родился в 1938 году в семье

репрессирован
.

Научная карьера

Выпускник

Московского инженерно-физического института 1961 года
.

В

работал в Союзном научно-исследовательском институте приборостроения.

В

Московского института электронного машиностроения
.

В

Московского института электронной техники
.

В

Института общей физики
(ИОФАН).

С

2016
).

Начиная с работы в МИЭТ, научная карьера и деятельность Орликовского была тесно связана с деятельностью академика К.А. Валиева. Орликовский, как и Валиев, последовательно переходил сначала в ФИАН, затем в ИОФАН и в ФТИАН. В 2005 году, когда Валиев ушёл с должности директора ФТИАН, новым директором был избран именно Орликовский.

Читал лекции на кафедре физических и технологических проблем микроэлектроники

МФТИ[1]
.

Член-корреспондент РАН (

Отделению нанотехнологий и информационных технологий
.

Скончался 1 мая 2016 года в Москве. Похоронен на Троекуровском кладбище (участок 25а)[2].

Основные научные результаты

  • Выполнены с внедрением в спецаппаратуре пионерские работы по полупроводниковым интегральным схемам памяти (концепция, схемы выборки, структуры, коллективные явления).
  • Разработаны плазменные процессы (травления, осаждения, имплантации и др.) в технологии кремниевой наноэлектроники; разработаны методы мониторинга плазменных процессов, созданы высокочувствительные детекторы момента окончания процессов; разработан
    томограф
    низкотемпературной плазмы для контроля 2В-распределений концентраций радикалов и ионов.
  • Разработаны оригинальные конструкции СВЧ и ВЧ источников высокооднородных потоков плотной плазмы; созданы автоматизированные технологические плазменные установки, предназначенные для применения как в исследовательских, так и в промышленных целях.
  • Разработаны новые технологии силицидизации контактов к мелкозалегающим p-n переходам; получены приоритетные результаты в исследованиях кинетики фазообразования силицидов.
  • Разработана физическая модель баллистических нанотранзисторов со структурой «кремний на изоляторе» с учетом квантовых эффектов; созданы нанотранзисторы с суб-100 нм каналами.

Награды

Примечания

Ссылки